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簡要描述:EDX-8000B型XRF鍍層測厚儀是將X射線照射在樣品上,通過從樣品上反射出來的第二次X射線的強度來測量鍍層等金屬薄膜的厚度,因為沒有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低,所以不會對樣品造成損壞。同時,EDX-8000B光譜膜厚儀測量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。
產(chǎn)品分類
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
EDX-8000B光譜膜厚儀介紹:
1.微光斑X 射線聚焦光學(xué)器件:
通過將高亮度一次X射線照射到0.02mm的區(qū)域,實現(xiàn)高精度測量。
2.硅漂移探測器 (SDD) 作為檢測系統(tǒng):
高計數(shù)率硅漂移檢測器可實現(xiàn)高精度測量。
3.高分辨率樣品觀測系統(tǒng):
精確的點位測量功能有助于提高測量精度。
4.全系列標(biāo)配薄膜FP無標(biāo)樣分析法軟件,可同時對多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進行測量。
配合用戶友好的軟件界面,可以輕松地進行日常測量。
EDX-8000B型XRF鍍層測厚儀背景介紹:
材料的鍍層厚度是一個重要的生產(chǎn)工藝參數(shù),其選用的材質(zhì)和鍍層厚度直接影響了零件或產(chǎn)品的耐腐蝕性、裝飾效果、導(dǎo)電性、產(chǎn)品的可靠性和使用壽命,因此,鍍層厚度的控制在產(chǎn)品質(zhì)量、過程控制、成本控制中都發(fā)揮著重要作用。英飛思開發(fā)的EDX8000B鍍層測厚儀是專門針對于鍍層材料成分分析和鍍層厚度測定。EDX-8000B光譜膜厚儀其主要優(yōu)點是準(zhǔn)確,快速,無損,操作簡單,測量速度快。可同時分析多達五層材料厚度,并能對鍍層的材料成分進行快速鑒定。
XRF鍍層測厚儀工作原理:
鍍層測厚儀EDX8000B是將X射線照射在樣品上,通過從樣品上反射出來的第二次X射線的強度來測量鍍層等金屬薄膜的厚度,因為沒有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低,所以不會對樣品造成損壞。同時,測量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。
膜厚儀EDX8000B產(chǎn)品特點:
1.測試快速,無需樣品制備
2.可通過內(nèi)置高清CCD攝像機來觀察及選擇定位微小面積鍍層厚度的測量,避免直接接觸,污染或破壞被測物
3.備有多種以上的鍍層厚度測量和成分分析時所需的標(biāo)準(zhǔn)樣品
4.可覆蓋元素周期表Mg鎂到U鈾
5.SDD檢測器,具有高計數(shù)范圍和出色的能量分辨率
6.可切換準(zhǔn)直器和濾光片
膜厚儀EDX8000B應(yīng)用場景:
1.EDX8000B鍍層測厚儀可以用于PCB鍍層厚度測量,PCB鍍層分析,金屬電鍍鍍層分析
2.測量的對象包括鍍層、敷層、貼層、涂層、化學(xué)生成膜等
3.可測量離子鍍、電鍍、蒸鍍、等各種金屬鍍層的厚度
4.鍍鉻,例如帶有裝飾性鍍鉻飾面的塑料制品
5.鋼上鋅等防腐涂層
6.電路板和柔性PCB上的涂層
7.插頭和電觸點的接觸面
8.電鍍液分析
9.貴金屬鍍層,如金基上的銠材料分析
10.電鍍液分析
11.分析電子和半導(dǎo)體行業(yè)的功能涂層
12.分析硬質(zhì)材料涂層,例如 CrN、TiN或TiCN
13.可拓展增加RoHS有害元素分析功能
技術(shù)參數(shù):
儀器外觀尺寸: 560mm*380mm*410mm |
超大樣品腔:460mm*310mm*95mm |
儀器重量:40Kg |
元素分析范圍:Mg12-U92鎂到鈾 |
可分析含量范圍:1ppm- 99.99% 涂鍍層低檢出限:0.005μm |
探測器:AmpTek高分辨率電制冷SDD Detector |
多道分析器: 4096道DPP analyzer |
X光管:50W高功率光管 |
高壓發(fā)生裝置:電壓最大輸出50kV,自帶電壓過載保護 |
電壓:220ACV 50/60HZ |
環(huán)境溫度:-10 °C 到35 °C |
膜厚儀EDX8000B可分析的常見鍍層材料:可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Cr/Fe, Ni/Fe, Ag/Cu,Zn/Fe等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Cu, Ag/Pb/Zn, Ni/Cu/Fe等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe, ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe, 同時分析鎳磷含量和鍍層厚度
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